第73回 応用物理学会春季学術講演会にて講演を行います。

「X線および電子線PDF解析を用いたSi基板上アモルファスSiO₂薄膜の構造評価手法の検討」
発表者：伊藤 孝憲
SiO₂ガラスプレートを用いてX線全散乱PDF解析におけるin-planeおよびout-of-plane測定法を検討し、得られた手法をSi基板上アモルファスSiO₂薄膜に適用しました。さらに、電子線回折を用いたPDF解析により膜表面側および基板界面側の局所構造評価を行った結果を報告します。

第73回 応用物理学会春季学術講演会
主催：公益財団法人 応用物理学会
日時：2026年3月15日 (日)-18日 (水)
場所：東京科学大学 大岡山キャンパス＆オンライン
https://meeting.jsap.or.jp/